让灵感被看见，让创造被尊重——大学生IP避坑指南

在数字创新与人工智能快速发展的背景下，知识产权已深度融入大学生学习研究、内容创作与创新创业实践之中。为迎接2026年全国知识产权宣传周，西交利物浦大学知识产权信息服务中心（IPISC）推出展览 “让灵感被看见，让创造被尊重——大学生IP避坑指南”。本次展览精选十个与大学生密切相关的知识产权典型议题，通过“知识点 + 案例故事 + 温馨提示”的形式，聚焦科研成果保护、版权使用边界、AI内容权属、软件与商标保护、创业项目风险防范等内容，帮助师生识别常见知识产权风险，提升知识产权保护意识与创新成果保护能力。